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Tanner L-Edit MEMS Plus

Tanner L-Edit MEMS Plus

Tanner L-Edit MEMS,它是一种高级版图编辑器,具有曲面多边形和任意角度布尔运算等能够支持 MEMS 版图设计的功能。与其他专为机械工程而设计的 CAD 工具不同,L-Edit MEMS 可显示掩膜的 Clear 和 Dark 区域。因此,您可以快速绘制和编辑掩膜,然后轻松查看不同的掩膜组合,以检查它们的重叠和交互情况。利用众多强大的功能,例如出色的曲线支持、交互式 DRC、布尔运算、对象捕捉和对齐,您可以更高效地开展工作,以节省时间和成本。L-Edit MEMS 支持对任意形状、任意曲线的多边形执行复杂的布尔运算和派生层操作,提供了更高的精度。可针对对象组执行 AND、OR、XOR、减法、扩展和收缩等运算和操作。这样,只需要几个轻松绘制的对象,便可快速创建完整、复杂的 MEMS 曲面图形。

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Tanner L-Edit MEMS,它是一种高级版图编辑器,具有曲面多边形和任意角度布尔运算等能够支持 MEMS 版图设计的功能。与其他专为机械工程而设计的 CAD 工具不同,L-Edit MEMS 可显示掩膜的 Clear 和 Dark 区域。因此,您可以快速绘制和编辑掩膜,然后轻松查看不同的掩膜组合,以检查它们的重叠和交互情况。利用众多强大的功能,例如出色的曲线支持、交互式 DRC、布尔运算、对象捕捉和对齐,您可以更高效地开展工作,以节省时间和成本。L-Edit MEMS 支持对任意形状、任意曲线的多边形执行复杂的布尔运算和派生层操作,提供了更高的精度。可针对对象组执行 AND、OR、XOR、减法、扩展和收缩等运算和操作。这样,只需要几个轻松绘制的对象,便可快速创建完整、复杂的 MEMS 曲面图形。

功能和优势

•统一的开发环境中提供完整的 3D MEMS 和 IC 设计解决方案

•25 年的 MEMS 工具经验

•从版图创建 MEMS 3D 模型

•高度可编程的版图编辑器,并具有 MEMS 设计支持功能(如曲面多边形)

•参数化版图生成器有助于创建复杂的 MEMS 结构

•完整的图层和几何图形可视化

•使用对齐工具或图层布尔运算可轻松创建、布局和对齐 MEMS 结构

•利用设计规则检查 (DRC) 实现 MEMS 可制造性设计

•包含边界重建的 DXF 导入和 DXF 导出

•SoftMEMS 工具升级选项:

    -先进的 3D 分析工具:机械、热、声学、电气、静电、磁和流体分析

    -针对 IC 设计和 MEMS 器件的系统级仿真、协同仿真

    -从 3D 分析结果自动生成 MEMS 器件的行为模型

•独立的平台,支持 Windows 和 Linux

•简单易用:直观、容易上手

•无与伦比的客户支持

•灵活的许可



MEMS 设计工具领导者

在当今的 MEMS 设计领域,集成比以往任何时候都更重要。要在高效率、高生产率的市场中竞争,您需要经过验证、能够加快成功的商业项目设计周期的工具集。Tanner MEMS 设计流程不仅简化了 MEMS 器件与模拟/混合信号处理电路的集成,还提供了改善 MEMS 器件可制造性所需的工具。利用这种领先的 MEMS 和模拟/混合信号 IC 设计工具,只需极少的培训便可上手使用,从而缩短了设计周期。

该设计流程的核心部分是 Tanner L-Edit MEMS,它是一种高级版图编辑器,具有曲面多边形和任意角度布尔运算等能够支持 MEMS 版图设计的功能。与其他专为机械工程而设计的 CAD 工具不同,L-Edit MEMS 可显示掩膜的 Clear 和 Dark 区域。因此,您可以快速绘制和编辑掩膜,然后轻松查看不同的掩膜组合,以检查它们的重叠和交互情况。利用众多强大的功能,例如出色的曲线支持、交互式 DRC、布尔运算、对象捕捉和对齐,您可以更高效地开展工作,以节省时间和成本。L-Edit MEMS 支持对任意形状、任意曲线的多边形执行复杂的布尔运算和派生层操作,提供了更高的精度。可针对对象组执行 AND、OR、XOR、减法、扩展和收缩等运算和操作。这样,只需要几个轻松绘制的对象,便可快速创建完整、复杂的 MEMS 曲面图形。


先进的设计规则检查

Tanner L-edit Mems Plus 具有先进的设计规则检查功能,可帮助您轻松查找设计缺陷并提高良率。您可以利用该工具的图形界面轻松设置规则,使其可针对任何工艺进行配置。这一点很重要,因为大多数 MEMS 工艺都具有很强的专业性或专有性。L-Edit MEMS Plus 凭借先进的验证错误导航器,可立即将您带到版图编辑器中的违规位置,并提供清晰、详尽的 DRC 结果摘要报告,因而有助于缩短验证时间。


MEMS 3D 建模

3D Solid Modeler 插件允许您从选定的版图区域和制造工艺描述创建 MEMS 器件的 3D 模型。简单易用的工艺管理器允许您输入制造工艺步骤和序列以及材料属性。支持表面微加工和体微加工工艺步骤,如材料沉积、蚀刻、机械抛光、扩散、生长、电镀和晶圆操作步骤。可缩放 3D 模型并选择掩膜层子集进行查看。可通过旋转、缩放、预设视图和分步显示制造序列来查看模型。还可以通过动画模型来显示工序。

横截面查看器基于用户指定的剖切线在 Z 维度显示剖视图。可在掩膜版图上定义边界条件,并以主流格式(如 SAT、APDL 和 IGES)随 2D 或 3D 模型一起自动传输到第三方分析或查看程序。模型可以 “去特征化”,以实现高效的有限元网格划分 (FEM)。MEMS 特定的网格生成器可创建用于分析的高效网格。

EasyMEMS 工具有助于自动创建较耗时的 MEMS 掩膜版图设计,如创建环形阵列。有用的宏包括生成孔和凹陷,以正确发布 MEMS 结构。通过图形化库浏览器提供可扩展 MEMS 器件版图库。库器件链接到用户指定的设计规则或晶圆加工厂设计规则,以确保可制造性。库中包含热、机械、光学、流体和静电器件。


系统级 MEMS 仿真

您可以为 MEMS 设计工具套件升级 MEMS Pro,以运行 IC 和 MEMS 的系统级闭环仿真。仿真完全在 SPICE 中完成,并使用行为模型来描述 MEMS 器件。对非电气域进行处理,将其映射到用于仿真的电气域。包括可组合 MEMS 模型库;该库已按照工艺参数、材料属性和器件尺寸进行参数化处理。

MEMS 建模器使用来自有限元分析的 3D 数据,自动生成行为模型,为整合了电路和封装的系统仿真做好准备。涉及大量自由度的复杂有限元模型被约减为只有少量主自由度的行为级模型。用户还可以从解析方程创建自己的模型,该工具则以多种主流格式生成用于仿真的行为模型。MEMS 建模器搭建了 3D 仿真与系统仿真之间的桥梁,使设计团队能够协同工作。